[发明专利]带有保护衬垫的光检测设备及与其相关的方法

摘要

本申请涉及但不限于带有保护衬垫的光检测设备及与其相关的方法。提供了光检测设备和相关方法。该设备可以包括反应结构以用于包含具有相对高或低pH的反应溶液和产生光发射的多个反应位点。该设备可包括设备基座，该设备基座包括多个光传感器、耦合到光传感器的设备电路、以及阻挡激发光但允许光发射传递到光传感器的多个光导。设备基座还可以包括在每个光导和设备电路之间、围绕每个光导延伸的衬垫层，以及相对于在每个光导和衬垫层之间围绕每个光导延伸的反应溶液是化学惰性的保护层。保护层防止穿过反应结构和光导的反应溶液与设备电路相互作用。

主权项

1.一种设备，包括：反应结构，所述反应结构形成多个反应凹槽和至少一个反应位点，所述多个反应凹槽用于包含pH小于或等于约5或pH大于或等于约8的反应溶液，所述至少一个反应位点在用所述反应溶液处理后响应于入射激发光而产生光发射；和设备基座，所述设备基座被定位于所述反应结构下方，包括：多个光传感器；设备电路，所述设备电路电耦合到所述光传感器，以基于由所述光传感器检测到的光子而传输数据信号；多个光导，所述多个光导具有输入区域，所述输入区域接收所述激发光和来自至少一个对应的反应凹槽的所述光发射，所述多个光导从所述输入区域朝向至少一个对应的光传感器延伸到所述设备基座中并且包括至少一种过滤材料，所述至少一种过滤材料过滤所述激发光并允许所述光发射传递到所述至少一个对应的光传感器；屏蔽层，所述屏蔽层围绕每个光导延伸并被定位在每个光导和所述设备电路之间；和保护层，所述保护层围绕每个光导延伸并被定位在每个光导和所述屏蔽层之间，所述保护层防止穿过所述反应结构和所述光导的反应溶液与所述设备电路相互作用，其中，所述保护层相对于所述反应溶液是化学惰性的。