[发明专利]定向自组装模板转移方法

摘要

本发明提供了一种定向自组装模板转移方法。该方法包括以下步骤：在衬底上形成苯乙烯‑碳酸酯嵌段共聚物层并进行定向自组装，以使苯乙烯‑碳酸酯嵌段共聚物层形成垂直的相分离，得到自组装模板，自组装模板包括由聚苯乙烯构成的第一区域以及由聚碳酸酯构成的第二区域；去除第一区域，得到由第二区域构成的光刻图形结构，光刻图形结构具有光刻图案；将衬底表面氧化以形成缓冲层，并以光刻图形结构为掩膜刻蚀缓冲层，得到图形化缓冲层；以图形化缓冲层为掩膜刻蚀衬底，以在衬底表面形成纳米图形结构。上述方法无需中性层(无规共聚物材料)，并且形成的缓冲层降低了刻蚀过程中对嵌段共聚物分子弱刻蚀特性的高度依赖，工艺简单且易于实施。

主权项

1.一种定向自组装模板转移方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，在衬底(10)上形成苯乙烯‑碳酸酯嵌段共聚物层并进行定向自组装，以使所述苯乙烯‑碳酸酯嵌段共聚物层形成垂直的相分离，得到自组装模板，所述自组装模板包括由聚苯乙烯构成的第一区域(20)以及由聚碳酸酯构成的第二区域(30)；S2，去除所述第一区域(20)，得到由所述第二区域(30)构成的光刻图形结构，所述光刻图形结构具有光刻图案；S3，将所述衬底(10)表面氧化以形成缓冲层(110)，并以所述光刻图形结构为掩膜刻蚀所述缓冲层(110)，得到图形化缓冲层(111)；S4，以所述图形化缓冲层(111)为掩膜刻蚀所述衬底(10)，以在所述衬底(10)表面形成纳米图形结构。