[发明专利]一种二维铋氧硒原子晶体材料、及其制备方法和用途有效

专利信息
申请号: 201811566870.X 申请日: 2018-12-19
公开(公告)号: CN109402739B 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 成会明;乌斯曼·汗;唐磊;罗雨婷;刘碧录 申请(专利权)人: 清华-伯克利深圳学院筹备办公室
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B29/64;C30B23/00;H01L29/24;H01L31/032
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 潘登
地址: 518055 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种二维铋氧硒原子晶体的制备方法,所述方法包括以下步骤:将含铋元素和硒元素的前驱体进行物理气相沉积,得到二维铋氧硒原子晶体材料,所述二维铋氧硒原子晶体材料为四方晶系。本发明采用物理气相沉积,解决了化学气相反应过程中铋源和硒源的配比不易控制的问题,得到的二维铋氧硒原子晶体材料纯度更高,空位缺陷更少,进而电子迁移率更高,电子迁移率≥135cm2/(V·s),同时相对于化学气相沉积,物理气相沉积可使得到二维铋氧硒原子晶体材料晶型完整性更高,晶体尺寸更大,单晶畴边长可达到毫米级别,最大单晶畴边长≥1.7mm,最小单晶畴边长≥200μm。
搜索关键词: 一种 二维 铋氧硒 原子 晶体 材料 及其 制备 方法 用途
【主权项】:
1.一种二维铋氧硒原子晶体材料的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:将含铋元素和硒元素的前驱体进行物理气相沉积,得到二维铋氧硒原子晶体材料。
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