[发明专利]一种交叠结构纳米片层材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 201811569690.7 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN111349245B | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 王素力;夏章讯;孙公权 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | C08G83/00 | 分类号: | C08G83/00;B01J31/22;B01J35/10;B01J20/22;B01J20/28;B01J20/30 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 马驰 |
地址: | 116023 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及一种交叠结构纳米片层材料,由金属有机框架纳米片层和石墨烯基材料片层叠合或交替叠合而成的复合片层结构;每层金属有机框架纳米片层的厚度为1‑5nm;每层石墨烯基材料片层的厚度为1‑10nm;复合片层的厚度为2‑100nm。复合材料可用于电催化反应、物质吸收释放以及气体分离。 | ||
搜索关键词: | 一种 交叠 结构 纳米 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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