[发明专利]一种气体簇射装置

摘要

本发明公开了一种气体簇射装置，包括依次连接的进气缓冲结构、第一气体匀化结构和第二气体匀化结构，进气缓冲结构的进气口用于与进气管道连接，进气缓冲结构的出气口与第一气体匀化结构连通，第一气体匀化结构和第二气体匀化结构上设有气体簇射孔且相互连通，第二气体匀化结构的底部用于与原子层沉积镀膜机的真空腔壁连接。本发明的进气缓冲结构能够实现进气的初步减压和发散，采用了双层气体匀化结构，提高簇射气体在基板处的分布均匀性；各部件之间采用带有刀口槽的法兰连接，气密性好，适合在腐蚀性气体，高温的工作条件下使用；利用金属密封结构连接后，三个结构之间形成有一定高度的缓冲空间，进一步提高气体的匀化效率。

主权项

1.一种气体簇射装置，其特征在于：包括依次连接的进气缓冲结构、第一气体匀化结构和第二气体匀化结构，所述进气缓冲结构的进气口用于与进气管道连接，所述进气缓冲结构的出气口与所述第一气体匀化结构连通，所述第一气体匀化结构上设置有若干个粗气体簇射孔，所述第二气体匀化结构上设置有若干个细气体簇射孔，所述粗气体簇射孔的孔径大于所述细气体簇射孔的孔径，所述第一气体匀化结构与所述第二气体匀化结构连通，所述第二气体匀化结构的底部用于与原子层沉积镀膜机的真空腔壁连接。