[发明专利]基于图形补偿的光刻版及其制作方法

摘要

本发明公开了一种基于图形补偿的光刻版及其制作方法，所述制作方法包括：S1、在光刻版上形成第一版图；S2、采用具有第一版图的光刻版进行光刻工艺，获取光刻后的实际图形；S3、根据第一版图和光刻后的实际图形，得到基于横向刻蚀的图形差异；S4、根据图形差异对第一版图进行图形补偿，得到第二版图；S5、在光刻版上形成第二版图。本发明通过原始版图和实际图形的图形差异对原始版图进行补偿修正，将刻蚀工艺中横向刻蚀的图形尺寸补偿到光刻版版图中，能够有效地刻蚀形成理想的目标图形，适用于各种电子器件的工艺流程。

主权项

1.一种基于图形补偿的光刻版制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：S1、在光刻版上形成第一版图；S2、采用具有第一版图的光刻版进行光刻工艺，获取光刻后的实际图形；S3、根据第一版图和光刻后的实际图形，得到基于横向刻蚀的图形差异；S4、根据图形差异对第一版图进行图形补偿，得到第二版图；S5、在光刻版上形成第二版图。