[发明专利]用于还原炉的进料管、还原炉及进料管孔径的调节方法有效
| 申请号： | 201811574007.9 | 申请日： | 2018-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN109592686B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 高志明;甘易武;韩成福;闫晓英;唐芝礼;郑连基;李娜 | 申请（专利权）人： | 亚洲硅业（青海）有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 赵志远 |
| 地址： | 810007 青海*** | 国省代码： | 青海;63 |
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| 摘要： | 本发明提供的一种用于还原炉的进料管、还原炉及进料管孔径的调节方法，多晶硅生产技术领域，包括：进料管体；喷嘴设置在进料管体的出口；喷嘴的内腔具有自喷嘴的第一端至第二端贯穿的喷孔，喷嘴沿喷孔的中轴线所在平面分隔为第一部件和第二部件；第一部件上的喷孔部分的直径自喷嘴的第一端至第二端逐渐减小；第二部件上的喷孔部分的直径自喷嘴的第一端至第二端逐渐增大。在上述技术方案中，通过进料管上由第一部件和第二部件所构成的喷嘴，便能够任意调整喷孔的孔径大小，进而调整进入炉内的氢气和三氯氢硅混合物料气体的流速，使炉内流场一直处于最佳状态，提升多晶硅产品品质，节能降耗。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 进料管 喷孔 还原炉 第一端 进料管体 炉内 多晶硅产品 多晶硅生产 混合物料 节能降耗 三氯氢硅 所在平面 逐渐减小 逐渐增大 氢气 中轴线 流场 内腔 分隔 贯穿 出口 | ||
【主权项】：
1.一种用于还原炉的进料管，其特征在于，包括：进料管体；喷嘴，所述喷嘴设置在所述进料管体的出口；所述喷嘴的内腔具有自所述喷嘴的第一端至第二端贯穿的喷孔，所述喷嘴沿所述喷孔的中轴线所在平面分隔为第一部件和第二部件；所述第一部件上的喷孔部分的直径自所述喷嘴的第一端至第二端逐渐减小；所述第二部件上的喷孔部分的直径自所述喷嘴的第一端至第二端逐渐增大；还包括控制机构；所述控制机构与所述第一部件连接，用于驱动所述第一部件相对于第二部件轴向移动；或者，所述控制机构与所述第二部件连接，用于驱动所述第二部件相对于第一部件轴向移动。
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