[发明专利]薄膜体声波滤波器及其封装方法有效
申请号: | 201811580862.0 | 申请日: | 2018-12-24 |
公开(公告)号: | CN109660227B | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 范亚明;刘斌;朱璞成;刘芹篁;陈诗伟;黄蓉 | 申请(专利权)人: | 江西省纳米技术研究院 |
主分类号: | H03H9/02 | 分类号: | H03H9/02;H03H9/05;H03H9/10;H03H9/56;H03H9/58;H03H3/02 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 王茹;王锋 |
地址: | 330000 江西省南昌市*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明揭示了一种薄膜体声波滤波器及其封装方法,所述滤波器包括硅衬底、沉积于硅衬底正面上的多层绝缘层、沉积于最顶层的绝缘层上的FBAR器件、背腔和至少两个导电柱,FBAR器件包括自绝缘层的顶面从下往上依次沉积的下电极、压电材料层和上电极;背腔自硅衬底的背面刻蚀至下电极形成,且背腔对应的位置为压电振荡有效区域,导电柱从硅衬底的背面引出上、下电极。本发明具有增加FBAR器件机械牢固性、提高FBAR器件性能、节约电极引出空间,可靠性更高、可以保护FBAR器件的压电振荡有效区域等优点。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 声波 滤波器 及其 封装 方法 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜体声波滤波器,其特征在于,包括:硅衬底,其包括相对的正面和背面,多层绝缘层,沉积于所述硅衬底的正面上;FBAR器件,沉积于最顶层的所述绝缘层上,所述FBAR器件包括自绝缘层的顶面从下往上依次沉积的下电极、压电材料层和上电极;背腔,其自硅衬底的背面刻蚀至下电极形成,且所述背腔对应的位置为压电振荡有效区域;至少两个导电柱,所述导电柱从硅衬底的背面引出所述上电极和下电极。
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