[发明专利]薄膜体声波滤波器及其封装方法有效

专利信息
申请号: 201811580862.0 申请日: 2018-12-24
公开(公告)号: CN109660227B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 范亚明;刘斌;朱璞成;刘芹篁;陈诗伟;黄蓉 申请(专利权)人: 江西省纳米技术研究院
主分类号: H03H9/02 分类号: H03H9/02;H03H9/05;H03H9/10;H03H9/56;H03H9/58;H03H3/02
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王茹;王锋
地址: 330000 江西省南昌市*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明揭示了一种薄膜体声波滤波器及其封装方法,所述滤波器包括硅衬底、沉积于硅衬底正面上的多层绝缘层、沉积于最顶层的绝缘层上的FBAR器件、背腔和至少两个导电柱,FBAR器件包括自绝缘层的顶面从下往上依次沉积的下电极、压电材料层和上电极;背腔自硅衬底的背面刻蚀至下电极形成,且背腔对应的位置为压电振荡有效区域,导电柱从硅衬底的背面引出上、下电极。本发明具有增加FBAR器件机械牢固性、提高FBAR器件性能、节约电极引出空间,可靠性更高、可以保护FBAR器件的压电振荡有效区域等优点。
搜索关键词: 薄膜 声波 滤波器 及其 封装 方法
【主权项】:
1.一种薄膜体声波滤波器,其特征在于,包括:硅衬底,其包括相对的正面和背面,多层绝缘层,沉积于所述硅衬底的正面上;FBAR器件,沉积于最顶层的所述绝缘层上,所述FBAR器件包括自绝缘层的顶面从下往上依次沉积的下电极、压电材料层和上电极;背腔,其自硅衬底的背面刻蚀至下电极形成,且所述背腔对应的位置为压电振荡有效区域;至少两个导电柱,所述导电柱从硅衬底的背面引出所述上电极和下电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西省纳米技术研究院,未经江西省纳米技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811580862.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top