[发明专利]一种石墨烯薄膜的制备方法及制备得到的石墨烯薄膜在审
| 申请号： | 201811581132.2 | 申请日： | 2018-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN109534329A | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 赵武;贾玮萍;陈诚;余润玮;张志勇;李强;马晓龙;闫军锋;贠江妮 | 申请（专利权）人： | 西北大学 |
| 主分类号： | C01B32/186 | 分类号： | C01B32/186 |
| 代理公司： | 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 | 代理人： | 孙雅静 |
| 地址： | 710069 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种石墨烯薄膜的制备方法及制备得到的石墨烯薄膜，包括：采用磁控溅射法将Ni原子于Cu衬底上形成薄膜得到Ni/Cu衬底；采用CVD法在所述的Ni/Cu衬底上制备石墨烯薄膜；所述Ni原子在所述Cu衬底上溅射量为1.3％～8.1％。所述的CVD法经过高温反应后再经过快速冷却进行石墨烯薄膜的制备；所述的高温反应的反应温度为1050℃；所述的快速冷却的冷却速率范围为25～28℃/min。通过调节溅射时间来调节Ni原子的组成，通过改变Ni/Cu衬底表面的Ni原子成分来调节石墨烯薄膜的层数。铜衬底的催化特性可以使碳原子的沉积均匀化，镍原子可以提高Ni/Cu衬底表面的催化活性。快速冷却有助于制备高质量的石墨烯薄膜，比传统的二元合金基催化剂更经济、更容易获得。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨烯薄膜 制备 衬底 快速冷却 衬底表面 高温反应 溅射 磁控溅射法 催化活性 催化特性 二元合金 基催化剂 传统的 均匀化 镍原子 碳原子 沉积 铜衬 薄膜 冷却 | ||
【主权项】：
1.一种石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，包括：采用磁控溅射法将Ni原子于Cu衬底上形成薄膜得到Ni/Cu衬底；所述Ni原子在所述Cu衬底上溅射量为1.3％～8.1％；采用CVD法在所述的Ni/Cu衬底上制备石墨烯薄膜；所述的CVD法经过高温反应后再经过快速冷却进行石墨烯薄膜的制备；所述的高温反应的反应温度为1050℃；所述的快速冷却的冷却速率为25～28℃/min。
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