[发明专利]基质阵列和其制备方法有效
申请号: | 201811582290.X | 申请日: | 2014-03-13 |
公开(公告)号: | CN110066853B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | D.莱特;W.欣茨;R.西塞罗;C.英曼;P.肯尼;A.马斯特罗伊安尼;R.罗泽科夫;Y.王;J.格雷;M.格莱泽;D.格雷姆亚钦斯基 | 申请(专利权)人: | 生命技术公司 |
主分类号: | C12Q1/6834 | 分类号: | C12Q1/6834;C12Q1/6837;C12Q1/6869;C12Q1/6806 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 凃滔;张文辉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种形成聚合物基质阵列的方法包括向孔阵列的孔中施加水溶液。所述水溶液包括聚合物前驱体。所述方法进一步包括在所述孔阵列上面施加不可混溶流体以分隔所述孔阵列的所述孔内的所述水溶液,并且使所述孔阵列的所述孔中分隔的所述聚合物前驱体聚合以形成所述聚合物基质阵列。一种设备包括感测器阵列、对应于所述感测器阵列的孔阵列以及安置于所述孔阵列中的聚合物基质阵列。 | ||
搜索关键词: | 基质 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种形成聚合物基质阵列的方法,所述方法包含:在孔阵列的孔上面施加乳液,所述乳液包括在不可混溶连续相中的水性分散相,所述水性分散相包括聚合物前驱体,所述分散相在所述孔阵列的所述孔中聚结;在所述孔阵列的所述孔上面施加第二不可混溶流体来代替所述乳液;以及使所述孔阵列的所述孔中的所述聚合物前驱体聚合以形成所述聚合物基质阵列。
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