[发明专利]调焦调平装置、光刻设备及调焦调平方法有效
| 申请号： | 201811583111.4 | 申请日： | 2018-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN111352304B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 毛静超;徐荣伟;庄亚政;孙建超;季桂林;李淑蓉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种调焦调平装置、光刻设备及调焦调平方法，光源模块发出的光线经照明模块入射至反射狭缝单元上，经反射狭缝单元反射后再经过投影单元投射至一衬底上，衬底反射的光线经过成像单元成像至探测模块上，探测模块处理接收到的光线，以获得衬底的位置信息。本发明突破了测量标记对狭缝材料的依赖，有利于大幅度提高调焦调平装置的能量利用率和提升探测信噪比。 | ||
| 搜索关键词： | 调焦 平装 光刻 设备 平方 | ||
【主权项】：
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