[发明专利]用于校准光学轮廓仪粗糙度的线距样板及制备方法在审
| 申请号： | 201811589071.4 | 申请日： | 2018-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN109855572A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 冯亚南;李锁印;韩志国;张晓东;吴爱华;赵琳;许晓青;梁法国 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30 |
| 代理公司： | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人： | 郝伟 |
| 地址： | 050051 河北*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于校准光学轮廓仪粗糙度的线距样板及制备方法，属于标准件技术领域，包括基板，基板上并列设有多条线条，线距周期为线条宽度的两倍，线条的深度与样板的标称粗糙度对应，基板为硅片。本发明提供的用于校准光学轮廓仪粗糙度的线距样板，以不透明硅片为衬底，提高反射率，在硅片上采用反应离子刻蚀工艺制备多线条样板，这种利用刻蚀工艺制备的多线条样板，能够准确控制样板上的线条的深度和线条的宽度，提高标准样件的精度，进而提高光学轮廓仪校准的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 线条 样板 光学轮廓仪 粗糙度 校准 线距 制备 硅片 基板 反应离子刻蚀工艺 标准件 标准样件 刻蚀工艺 准确控制 不透明 反射率 标称 衬底 并列 | ||
【主权项】：
1.用于校准光学轮廓仪粗糙度的线距样板，其特征在于，包括基板，所述基板上并列设有多条线条，线距周期为线条宽度的两倍，所述线条深度与制备的样板的标称粗糙度对应，所述基板为硅片。
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