[发明专利]柔性衬底的薄膜晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811591079.4 申请日: 2018-12-25
公开(公告)号: CN109767989A 公开(公告)日: 2019-05-17
发明(设计)人: 赵天石;赵春;赵策洲;杨莉;于水长;傅剑峰;谷俊宏 申请(专利权)人: 西交利物浦大学
主分类号: H01L21/34 分类号: H01L21/34;H01L21/02;H01L29/786
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 范晴
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于微电子器件领域,具体要求保护一种利用溶液法与异质结导电原理的低成本薄膜晶体管及其制备方法。该器件以柔性材料为基底,在上面设置有基于溶液法制备的栅极、绝缘层、异质结半导体层与源、漏电极。其中栅、源、漏三电极成份皆为由水溶液法制备的ITO材料,并且利用改变亲水性方法来将栅极图案化。绝缘层成份为水溶液法制备的Al2O3/ZrO2叠层,并且通过掺杂Li元素来提高介电常数,起到提高整个器件性能的作用。半导体层为ZnO/In2O3叠层,这种结构可以形成异质结,基于二维电子气原理来提高电子迁移率。整个制备工艺可在非真空大气条件下进行,并且温度不超过200度,生产成本较低,同时全器件为透明器件,可在光学领域中有重要应用。
搜索关键词: 绝缘层 薄膜晶体管 水溶液法制 异质结 叠层 制备 异质结半导体 电子迁移率 二维电子气 溶液法制备 微电子器件 半导体层 大气条件 导电原理 光学领域 介电常数 器件性能 柔性材料 透明器件 栅极图案 制备工艺 重要应用 低成本 非真空 漏电极 亲水性 溶液法 三电极 衬底 基底 生产成本 掺杂
【主权项】:
1.一种柔性衬底的薄膜晶体管制备方法,所述薄膜晶体管包括柔性绝缘衬底,栅电极,绝缘层,半导体层,源电极和漏电极,其制备方法包括:(1)在柔性绝缘衬底的上表面形成图案化栅电极;(2)配制水为溶剂的绝缘层前驱体水溶液,然后用旋涂法在栅电极和柔性绝缘衬底上覆盖形成绝缘层;(3)配制水为溶剂的半导体层前驱体水溶液,然后用旋涂法在所述绝缘层上形成半导体层;(4)在所述半导体层上表面分别形成源电极和漏电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西交利物浦大学,未经西交利物浦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811591079.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top