[发明专利]一种铜离子印迹聚合物的制备方法及其应用在审
| 申请号： | 201811591941.1 | 申请日： | 2018-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN109569539A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 康澍;王倩;兰天 | 申请（专利权）人： | 北京普析通用仪器有限责任公司 |
| 主分类号： | B01J20/26 | 分类号： | B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/20 |
| 代理公司： | 北京市东方至睿知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11485 | 代理人： | 霍金虎 |
| 地址： | 101200*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种铜离子印迹聚合物的制备方法及其应用。一、将1mmol醋酸铜和1～6mmol表面活性剂胶束与1mol高纯水混合，在室温下搅拌1h，制成混合溶液；二、在步骤一的混合溶液中，加入1～6mmol功能单体，在室温下搅拌1h，形成铜离子配合物；所述功能单体为N‑[3‑(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺；三、将10～20mmol原硅酸四乙酯溶解于2～10ml甲醇中，与步骤二中的溶液混合，在室温下磁力搅拌24～48h，再于90℃水浴反应24h，形成聚合物；四、步骤三中形成的聚合物在乙醇溶液中进行索提24h，再用2mol/L盐酸溶液多次洗涤，至洗脱液中未检出铜离子止，最后用高纯水洗至中性，干燥箱干燥即可。本发明制备的铜离子印迹聚合物，采用分子印迹技术，对铜离子具有特异性选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 铜离子印迹聚合物 制备 功能单体 聚合物 铜离子 表面活性剂胶束 分子印迹技术 三甲氧基硅基 铜离子配合物 原硅酸四乙酯 混合溶液中 磁力搅拌 混合溶液 溶液混合 水浴反应 盐酸溶液 乙醇溶液 醋酸铜 干燥箱 高纯水 洗脱液 乙二胺 丙基 高纯 甲醇 检出 洗涤 应用 溶解 | ||
【主权项】：
1.一种铜离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，步骤一、将1mmol醋酸铜和1～6mmol表面活性剂胶束与1mol高纯水混合，在室温条件下搅拌1h，制成混合溶液；步骤二、在步骤一的混合溶液中，加入1～6mmol功能单体，在室温条件下搅拌1h，形成铜离子配合物；所述功能单体为N‑[3‑(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺；步骤三、将10～20mmol原硅酸四乙酯溶解于2～10ml甲醇中，与步骤二制得的配合物混合，在室温下磁力搅拌24～48h，再于90℃水浴反应24h，形成聚合物；步骤四、步骤三中形成的聚合物在乙醇溶液中进行索提24h，再用2mol/L盐酸溶液多次洗涤，至洗脱液中未检出铜离子止，最后用高纯水洗至中性，干燥箱干燥即可。
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