[发明专利]一种深陷阱长余辉材料、其光存储方法、其制备方法及光盘在审
| 申请号： | 201811592235.9 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN109504382A | 公开（公告）日： | 2019-03-22 |
| 发明（设计）人： | 王波;陈子坤;梁瑞钊;李勇挺;郭成觉;蔡启辉;王洪伟 | 申请（专利权）人： | 五邑大学 |
| 主分类号： | C09K11/80 | 分类号： | C09K11/80;G11B7/24 |
| 代理公司： | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人： | 吴伟文 |
| 地址： | 529020 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明公开一种深陷阱长余辉材料，涉及发光材料领域，化学通式是Y3‑xCexAl5‑yGayMZO12，其中M为金属元素Li、Na、K、Mg、Ca中的任意一种或金属元素Li、Na、K、Mg、Ca中的任意组合，0 | ||
| 搜索关键词： | 长余辉材料 陷阱 光存储 金属元素 制备 光盘 存储容量 发光材料 化学通式 多维度 存储 | ||
【主权项】：
1.一种深陷阱长余辉材料，其特征在于，化学通式是Y3‑xCexAl5‑yGayMZO12，其中M为金属元素Li、Na、K、Mg、Ca中的任意一种或金属元素Li、Na、K、Mg、Ca中的任意组合，0
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