[发明专利]一种面发射透射式阵列结构的空间相干X射线源在审
| 申请号： | 201811593094.2 | 申请日： | 2018-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN109473329A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 宗方轲;郭金川;杨君;文明;宋韩冬 | 申请（专利权）人： | 深圳大学 |
| 主分类号： | H01J35/02 | 分类号： | H01J35/02;H01J35/14 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 逯恒 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种空间相干X射线源，包括：阴极、电子束汇聚装置和透射式阳极靶，阴极包括平面发射型电子发射体，其中，平面发射型电子发射体、电子束汇聚装置和透射式阳极靶依次设置于同轴光路上；平面发射型电子发射体具有垂直于光轴的用于发射第一电子束的发射平面；电子束汇聚装置用于接收并汇聚由发射平面发射的第一电子束得到第二电子束，并将第二电子束发射到透射式阳极靶上，对透射式阳极靶进行轰击；透射式阳极靶与阴极对应设置，用于在第二电子束的轰击下产生X射线，以及让X射线穿过透射式阳极靶发射出去。使用本发明所描述的空间相干X射线源，能够满足X射线干涉成像系统对X射线源的高通量、大视场、获取高质量图像的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 透射式 阳极靶 阴极 相干X射线源 电子发射体 平面发射型 汇聚装置 发射平面 发射 轰击 干涉成像系统 电子束发射 高质量图像 依次设置 阵列结构 大视场 高通量 面发射 同轴光 光轴 穿过 垂直 汇聚 | ||
【主权项】：
1.一种面发射透射式阵列结构的空间相干X射线源，其特征在于，包括阴极、电子束汇聚装置和透射式阳极靶，所述阴极包括平面发射型电子发射体，其中，所述平面发射型电子发射体、所述电子束汇聚装置和所述透射式阳极靶依次设置于同一光路上并具有共同的光轴；所述平面发射型电子发射体具有垂直于所述光轴的用于发射第一电子束的发射平面；所述电子束汇聚装置用于接收并汇聚由所述发射平面发射的所述第一电子束得到第二电子束，并将所述第二电子束发射到所述透射式阳极靶上，对所述透射式阳极靶进行轰击；所述透射式阳极靶与所述阴极对应设置，用于在所述第二电子束的轰击下产生X射线，以及让X射线穿过所述透射式阳极靶发射出去。
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