[发明专利]一种含有脲二酮基团的多异氰酸酯的制备方法有效

专利信息
申请号: 201811597900.3 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN109761903B 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 朱智诚;石滨;尚永华;严成岳;李晶;刘照;刘伟;李海军;王暖程;黎源 申请(专利权)人: 万华化学集团股份有限公司
主分类号: C07D229/00 分类号: C07D229/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 264006 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种有脲二酮基团的多异氰酸酯的制备方法,反应体系中总质量为M的二异氰酸酯单体在叔膦催化下进行聚合反应制备含有脲二酮基团的多异氰酸酯,当体系中所述二异氰酸酯单体的消耗质量M1占所述二异氰酸酯单体的总质量M的比值达到所需比例后终止反应,脱除体系中未反应的二异氰酸酯单体并将其回用到所述体系,从所述体系中脱除的所述未反应的二异氰酸酯单体在回用到所述体系之前,控制所述未反应的二异氰酸酯单体中氧化膦的含量不超过1wt%,优选不超过0.5wt%。本发明的方法制备得到的脲二酮异氰酸酯均聚物色号低,产品存储稳定性好。
搜索关键词: 一种 含有 脲二酮 基团 氰酸 制备 方法
【主权项】:
1.一种含有脲二酮基团的多异氰酸酯的制备方法,反应体系中总质量为M的二异氰酸酯单体在叔膦催化下进行聚合反应制备含有脲二酮基团的多异氰酸酯,当体系中所述二异氰酸酯单体的消耗质量M1占所述二异氰酸酯单体的总质量M的比值达到所需比例后终止反应,脱除体系中未反应的二异氰酸酯单体并将其回用到所述体系,其特征在于,从所述体系中脱除的所述未反应的二异氰酸酯单体在回用到所述体系之前,控制所述未反应的二异氰酸酯单体中氧化膦的含量不超过1wt%,优选不超过0.5wt%。
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