[发明专利]分轴式光刻工具在审
| 申请号： | 201811598227.5 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109976101A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | J·C·多纳赫 | 申请（专利权）人： | 鲁道夫科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈珊 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于半导体基材光刻处理的步进器包括一基座、一只沿着坐标系统的X轴移动的夹头、一安装在该基座和该夹头上的桥架、及至少一安装在该桥架上的投影照相机。该至少一投影照相机可沿着该坐标系统的Y轴移动。该夹头沿着X轴以及该至少一投影照相机沿着Y轴的总合的移动范围足以将该至少一投影照相机的视野(field of view)定址到安装于该夹头上的实质整个基材上。 | ||
| 搜索关键词： | 投影照相机 坐标系统 夹头 桥架 半导体基材 光刻处理 光刻工具 步进器 定址 分轴 基材 视野 移动 | ||
【主权项】：
1.一种用于半导体基材光刻处理的步进器，包含:一基座；一只沿着坐标系统的X轴移动的夹头；一安装在该基座和该夹头上的桥架；及至少一安装在该桥架上的投影照相机；该至少一投影照相机可沿着该坐标系统的Y轴移动，该夹头沿着X轴以及该至少一投影照相机沿着Y轴的总合移动范围足以将该至少一投影照相机的视野定址到安装于该夹头上的实质整个基材上。
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