[发明专利]一种薄膜沉积工艺控制系统及方法在审
| 申请号： | 201811600866.0 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109881163A | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | 张晓军 | 申请（专利权）人： | 张晓军 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) 44319 | 代理人： | 余薇 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及薄膜制造技术领域，尤其涉及一种薄膜沉积工艺控制系统及方法，用于薄膜沉积装置对薄膜沉积速率进行测试以及工艺控制，所述薄膜沉积装置包括激光器、真空腔，靶材模块以及基片加热组件，所述测试系统包括：厚度测试模块以及与所述厚度测试模块信号连接的计算机设备；所述厚度测试模块包括设置在所述真空腔内的晶振测试组件以及与所述晶振测试组件传动连接的水平驱动装置，所述水平驱动装置用于驱动所述晶振测试组件在所述真空腔内预设的测试网格中水平移动，所述晶振测试组件用于测试每个网格点的薄膜生长厚度，所述测试网格位于薄膜生长平面上。本发明能提高薄膜生长效率，使得大面积薄膜沉积的可控性和重复性提供保障。 | ||
| 搜索关键词： | 测试组件 晶振 薄膜生长 厚度测试 真空腔 测试 薄膜沉积工艺 薄膜沉积装置 水平驱动装置 控制系统 网格 大面积薄膜沉积 薄膜制造技术 计算机设备 靶材模块 薄膜沉积 测试系统 传动连接 工艺控制 加热组件 模块信号 激光器 可控性 网格点 预设 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜沉积工艺控制系统，用于薄膜沉积装置对薄膜沉积速率进行测试及工艺控制，所述薄膜沉积装置包括激光器、真空腔，靶材模块以及基片加热组件，其特征在于，所述测试系统包括：厚度测试模块以及与所述厚度测试模块信号连接的计算机设备；所述厚度测试模块包括设置在所述真空腔内的晶振测试组件以及与所述晶振测试组件传动连接的水平驱动装置，所述水平驱动装置用于驱动所述晶振测试组件在所述真空腔内预设的测试网格中水平移动，所述晶振测试组件用于测试所述测试网格中每个网格点的薄膜生长厚度，所述测试网格位于薄膜生长平面上；所述计算机设备根据所述晶振测试组件获取的薄膜生长厚度计算所述测试网格中每个网格点的薄膜生长速率，并根据所述每个网格点的薄膜生长速率模拟生成薄膜生长速率分布图。
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