[发明专利]一种结构光投射器、深度成像装置在审

专利信息
申请号: 201811601686.4 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN109471270A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 吴旭东;粟登超;孙晓优 申请(专利权)人: 宁波舜宇光电信息有限公司
主分类号: G02B27/42 分类号: G02B27/42;G03B35/00;G06K9/20;G06T7/521;G02B27/09;G02B27/00;G01B11/25
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 曹兆霞
地址: 315400 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种结构光投射器,包括光源和图案生成器,所述光源出射圆形光斑的光线,所述图案生成器接收所述光源出射的光线,并将所述光线形成的圆形光斑转化为至少一种非圆形光斑后,复制每种非圆形光斑至光斑总数至少为目标光斑数量并以一定投射角度射出,形成非圆形结构光投射图案。该结构光投射器能够投射均匀、不相关且高密度的非圆形结构光投射图案。还公开了一种包含该结构光投射器的深度成像装置,该深度成像装置能够提高深度图像的质量和分辨率。
搜索关键词: 结构光投射器 光斑 深度成像 光源 非圆形结构 图案生成器 圆形光斑 非圆形 光投射 出射 投射 图案 深度图像 分辨率 射出 复制 转化
【主权项】:
1.一种结构光投射器,包括光源和图案生成器,所述光源出射圆形光斑的光线,其特征在于,所述图案生成器接收所述光源出射的光线,并将所述光线形成的圆形光斑转化为至少一种非圆形光斑后,复制每种非圆形光斑至光斑总数至少为目标光斑数量并以一定投射角度射出,形成非圆形结构光投射图案。
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