[发明专利]光学器件制作方法在审
| 申请号： | 201811601726.5 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN111367003A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 刘超群 | 申请（专利权）人： | 中芯集成电路（宁波）有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 高伟;张建 |
| 地址： | 315800 浙江省宁波市北*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学器件制作方法，该方法包括：提供玻璃晶圆，并在所述玻璃晶圆的正面和背面形成掩膜层；图形化所述玻璃晶圆正面的掩所述膜层，以使所述玻璃晶圆正面的所述掩膜层具有所述光学器件的图案；以所述玻璃晶圆正面的所述掩膜层为掩膜刻蚀所述玻璃晶圆，以在所述玻璃晶圆的正面形成所述光学器件的图案；去除所述玻璃晶圆的正面和背面的所述掩膜层；其中所述掩膜层为非金属层且具备静电夹持/解夹持性能。该光学器件制作方法可以解决刻蚀时玻璃晶圆的夹持/解夹持问题，且不会有金属污染问题。此外，成本相对较低。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 器件 制作方法 | ||
【主权项】：
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