[发明专利]制造显示装置的方法有效
| 申请号： | 201811602197.0 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN110034245B | 公开（公告）日： | 2023-04-11 |
| 发明（设计）人： | 柳仁卿;张宗燮;梁东炫 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | H10K71/00 | 分类号： | H10K71/00;H10K71/20;H10K71/60 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李强;王淑玲 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制造显示装置的方法，所述方法包括提供包括第一台阶部分的基底，在所述基底和所述第一台阶部分上形成金属层，在所述金属层上在与所述台阶部分的侧壁对应的位置处形成有机层图案，在所述金属层和所述有机层图案上形成光敏层，对所述光敏层进行图案化以形成与所述有机层图案相邻的光敏层图案，以及通过经由使用所述光敏层图案作为掩模的蚀刻工艺去除所述有机层图案和所述金属层的暴露部分来形成金属线。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 显示装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：提供包括第一台阶部分的基底；在所述基底和所述第一台阶部分上形成金属层；在所述金属层上在与所述第一台阶部分的侧壁对应的位置处形成有机层图案；在所述金属层和所述有机层图案上形成光敏层；对所述光敏层进行图案化以形成与所述有机层图案相邻的光敏层图案；以及通过经由使用所述光敏层图案作为掩模的蚀刻工艺去除所述有机层图案和所述金属层的暴露部分来形成金属线。
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