[发明专利]一种纳米线阵列制备方法在审
| 申请号： | 201811603933.4 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109761191A | 公开（公告）日： | 2019-05-17 |
| 发明（设计）人： | 段学欣;唐宁;周诚 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 | 代理人： | 韩登营;曲芳兵 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种纳米线阵列制备方法，包括：在一衬底表面上旋涂纳米压印胶；B、将具有纳米结构阵列的模板压印在旋涂纳米压印胶的衬底上，以使纳米结构阵列转印至纳米压印胶上；C、将被转印有纳米结构阵列的衬底倒置后，将其具有纳米结构阵列的一面与一柔性基底结合，以形成纳米级的微通道阵列；D、将用于生成纳米线的功能化聚合物溶液滴至微通道阵列的端口部，以使溶液受到所述微通道的毛细力的作用下，流入至所述微通道中，并在微通道中进行自组装，形成纳米线阵列；E、待微通道中的液体挥发，纳米线阵列定型完成以后，将衬底揭除后以获取具有纳米线阵列的柔性基底。由上，本申请能够低成本且高效地实现制备整齐排列的纳米线阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米线阵列 纳米结构阵列 微通道 纳米压印胶 衬底 制备 微通道阵列 柔性基底 转印 功能化聚合物 衬底表面 液体挥发 整齐排列 倒置 低成本 端口部 毛细力 模板压 纳米级 纳米线 溶液滴 自组装 揭除 上旋 旋涂 定型 申请 | ||
【主权项】：
1.一种纳米线阵列制备方法，其特征在于，包括步骤：A、在一衬底表面上旋涂纳米压印胶；B、将具有纳米结构阵列的模板压印在所述旋涂纳米压印胶的衬底上，以使所述纳米结构阵列转印至所述纳米压印胶上；C、将被转印有纳米结构阵列的衬底倒置后，将其具有纳米结构阵列的一面与一柔性基底结合，以形成纳米级的微通道阵列；D、将用于生成纳米线的功能化聚合物溶液滴至所述纳米级的微通道阵列的端口部，以使所述功能化聚合物溶液受到所述微通道的毛细力的作用下，流入至所述微通道中，并在所述微通道中进行自组装，形成纳米线阵列；E、待所述微通道中的液体挥发，所述纳米线阵列定型完成以后，将所述衬底揭除后以获取上表面具有纳米线阵列的柔性基底。
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