[发明专利]制备核孔膜的装置及方法在审

专利信息
申请号: 201811604979.8 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN109806728A 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 王建中;吕晓莉 申请(专利权)人: 上海谷奇核孔膜科技股份有限公司
主分类号: B01D53/22 分类号: B01D53/22;B01D61/00;B01D67/00;C02F1/44;H01M2/14;H01M2/16
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 谢绪宁;薛赟
地址: 201801 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种制备核孔膜的装置及方法,利用传输部件将经重离子辐照后具有潜径迹的一原始薄膜运输至喷淋部件的相对位置,利用喷淋部件对具有潜径迹的原始薄膜的待蚀刻表面进行喷淋蚀刻,将蚀刻液喷淋在原始薄膜的待蚀刻表面,使得潜径迹被蚀刻成孔,从而形成核孔膜。本发明利用喷淋方式在原始薄膜上形成目标孔径,提高了蚀刻液的均匀性和流动性,有效提高了刻蚀均匀性,最终能够得到微孔分布均匀且孔径均匀的核孔膜。
搜索关键词: 原始薄膜 核孔膜 径迹 喷淋 蚀刻 喷淋部件 蚀刻表面 蚀刻液 制备 刻蚀均匀性 重离子辐照 传输部件 目标孔径 微孔分布 均匀性 成孔 运输
【主权项】:
1.一种制备核孔膜的装置,其特征在于,包括:一传输部件和一喷淋区域,喷淋区域具有喷淋部件;所述传输部件将经重离子辐照后具有潜径迹的一原始薄膜运输至所述喷淋部件的相对位置;所述喷淋部件对具有潜径迹的所述原始薄膜的待蚀刻表面进行喷淋蚀刻,将蚀刻液喷淋在所述原始薄膜的待蚀刻表面,使得潜径迹被蚀刻成孔,从而形成核孔膜。
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