[发明专利]一种提升栅氧厚度均匀性的方法

摘要

本发明提供一种提升栅氧厚度均匀性的方法，包括：提供一晶圆，晶圆上分布有多个栅氧膜量测位置；以晶圆的圆心为极点建立极坐标系，将晶圆表面划分为多个区域，每个区域对应极坐标的一个半径值；每个区域分布有至少一个栅氧膜量测位置；提供用于加热晶圆的卤素灯及多个控温探针；得到每个控温探针对应极坐标的半径值，并根据其半径值得到每个控温探针所对应的区域；提供标准厚度，并得到标准厚度下栅氧膜所需要的温度值，计算每个区域对应的栅氧膜平均厚度，然后计算与每个区域对应的栅氧膜需要调节的温度值。通过对应极坐标和测温探针物理位置，精确地计算温度补偿，能够有效地提升晶圆栅氧膜厚均匀度。

主权项

1.一种提升栅氧厚度均匀性的方法，其特征在于，该方法至少包括：步骤一、提供一晶圆，所述晶圆上分布有多个栅氧膜量测位置；步骤二、以所述晶圆的圆心为极点建立极坐标系，将所述晶圆表面划分为多个区域，每个区域对应所述极坐标的一个半径值；每个区域分布有至少一个所述栅氧膜量测位置；步骤三、提供用于加热晶圆的卤素灯及多个控温探针；得到每个控温探针对应所述极坐标的半径值，并根据其半径值得到每个控温探针所对应的区域；步骤四、提供标准厚度，并得到所述标准厚度下栅氧膜所需要的温度值，对每个栅氧膜量测位置进行膜厚量测并计算每个区域对应的栅氧膜平均厚度，然后计算与每个区域对应的栅氧膜需要调节的温度值。