[发明专利]一种钝化接触结构及其在硅太阳电池中应用有效

专利信息
申请号: 201811607783.4 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN109786476B 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 曾俞衡;叶继春;闫宝杰;杨清;廖明墩;张志;黄玉清;郭雪琪;王志学 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/02;H01L31/068
代理公司: 宁波甬致专利代理有限公司 33228 代理人: 周民乐
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种钝化接触结构,包括钝化接触基体,至少一个表面上集成有硅化物薄膜,且硅化物薄膜中掺杂有硼、磷、铝、镓、氮中的至少一种元素,硅化物薄膜与钝化接触基体表面之间为氧化硅层。本发明的优点是硅化物薄膜层的带隙较大,减少短波长光的寄生吸收,提升太阳电池的短路电流,致密型高,热稳定性好,抑制爆膜和抗银浆烧蚀,电导率优良因此有利于保持良好的填充因子。
搜索关键词: 一种 钝化 接触 结构 及其 太阳电池 应用
【主权项】:
1.钝化接触结构,包括钝化接触基体,其特征在于,至少一个表面上集成有硅化物薄膜,且硅化物薄膜中掺杂有硼、磷、铝、镓、氮中的至少一种元素,硅化物薄膜与钝化接触基体表面之间为氧化硅层。
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