[发明专利]一种图形化复合衬底的制备方法在审
| 申请号： | 201811610350.4 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109841709A | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 刘坚 | 申请（专利权）人： | 江苏澳洋顺昌集成电路股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/20;H01L33/44;H01L33/12 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 温福雪 |
| 地址： | 223001*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种图形化复合衬底的制备方法，包括以下步骤：步骤1：将蓝宝石衬底放入激光切割机器上进行切割，在蓝宝石衬底表面形成由若干垂直交错排布的周期性沟道阵列；步骤2：在清洗后的蓝宝石衬底表面实现一层介质薄膜层；步骤3：在带有介质薄膜层的蓝宝石衬底上形成周期性条形光栅掩膜图形；步骤4：将掩膜图形转移到介质薄膜层和蓝宝石衬底上，该蓝宝石衬底表面形成有条形光栅微结构图形，经过清洗后，再再表面形成一层氮化铝单晶薄膜层，最后实现图形化复合衬底。本发明有效地避免了LED芯片光电性能损伤问题，大大提高了LED芯片的发光效率，并提高制程良率，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 蓝宝石 衬底 介质薄膜层 衬底表面 图形化 掩膜图形 复合 制备 清洗 氮化铝单晶薄膜 周期性条形光栅 微结构图形 表面形成 垂直交错 发光效率 沟道阵列 光电性能 激光切割 条形光栅 有效地 放入 良率 排布 制程 切割 损伤 | ||
【主权项】：
1.一种图形化复合衬底的制备方法，其特征在于，步骤如下：步骤1：将蓝宝石衬底放入激光切割机器上进行切割，在蓝宝石衬底表面形成由若干垂直交错排布的周期性沟道阵列；步骤2：对带有沟道阵列的蓝宝石衬底进行清洗后，在蓝宝石衬底表面形成一层介质薄膜层；步骤3：采用光刻或者压印方式，带有介质薄膜层的蓝宝石衬底上形成条形光栅掩膜图形；步骤4：将条形光栅掩膜图形转移到介质薄膜层和蓝宝石衬底表面，该蓝宝石衬底表面形成有条形光栅微结构图形阵列；步骤5：对带有条形光栅微结构图形阵列和介质沟道的衬底进行清洗后，在蓝宝石沉底表面沉积一层氮化铝单晶薄膜层，从而获得图形化复合衬底。
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