[发明专利]防刻蚀气体供应管道腐蚀的系统及等离子反应器运行方法有效
| 申请号： | 201811611363.3 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN111383886B | 公开（公告）日： | 2023-03-10 |
| 发明（设计）人： | 连增迪;吴狄;倪图强;黄允文;左涛涛 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 刘琰;贾慧琴 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种防刻蚀气体供应管道腐蚀的系统及等离子反应器运行方法，该运行方法包括以下步骤：当打开刻蚀反应腔体的顶盖时，打开所述可控阀门，向与所述刻蚀反应腔体相连通的气体供应装置内通入惰性气体，以防止空气中的水汽进入刻蚀气体供应管道；在关闭所述刻蚀反应腔体的顶盖进行等离子刻蚀时，关闭所述可控阀门，使得刻蚀气体通入所述气体供应装置。本发明可以有效防止空气中的水汽进入刻蚀气体供应管道，进而从根本上避免了水汽遇到腐蚀性气体后腐蚀刻蚀气体供应管道的问题，从而确保基片不会出线因供应管道腐蚀而导致的金属污染。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 气体 供应 管道 腐蚀 系统 等离子 反应器 运行 方法 | ||
【主权项】：
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