[发明专利]一种制备金刚石膜的装置及方法在审
申请号: | 201811612029.X | 申请日: | 2018-12-27 |
公开(公告)号: | CN111378954A | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
发明(设计)人: | 龚闯;满卫东;吴剑波 | 申请(专利权)人: | 上海征世科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/458;C23C16/511;C23C16/513;C23C16/517 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 冯子玲 |
地址: | 201799 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种制备金刚石膜的装置,其采用微波等离子体化学气相沉积装置,该装置包括微波系统、真空系统、供气系统和等离子体反应室,等离子体反应室中设有一自旋转基片台,工作过程中微波系统产生的微波进入等离子体反应室,在自旋转基片台上方激发供气系统提供的气体产生等离子体球,在自旋转基片台上设置一个衬底材料,衬底材料靠近外缘有一个环形凹坑,凹坑中填充一种金属材料,该金属材料高出衬底材料表面,形成一个环形金属凸起。本发明的优点在于,通过对衬底材料的改进,使成膜基底材料表面在沉积金刚石膜时具有比较合适的气流分布和等离子体分布。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 金刚石 装置 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的