[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201811614024.0 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN111378367A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 姚颖;荆建芬;黄悦锐;李恒;蔡鑫元;卞鹏程 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，所述抛光液包含研磨颗粒、金属缓蚀剂、络合剂、氧化剂，磷酸酯类表面活性剂和水。本发明的抛光液解决了在抛光过程中超低介电常数材料(ULK)去除速率选择比不易控制的问题，并满足阻挡层抛光工艺中对钽、二氧化硅(TEOS)、铜和超低介电常数材料(ULK)的去除速率及去除速率选择比的要求，且对半导体器件表面的形貌有很强的矫正能力，快速实现平坦化，提高工作效率，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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