[发明专利]用于高能激光光强分布参数测量的光束取样器有效

专利信息
申请号: 201811614441.5 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN109579983B 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 吴勇;杨鹏翎;王振宝;赵海川;王平;张磊;武俊杰;闫燕;谢贤忱 申请(专利权)人: 西北核技术研究所
主分类号: G01J1/04 分类号: G01J1/04;G01J1/42
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 汪海艳
地址: 710024 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种用于高能激光光强分布参数测量的光束取样器,前面板与底板上开设若干只呈面阵排布的衰减器单元;衰减器单元包括同轴设置入射孔、衰减腔和出射孔;入射孔和衰减腔设置在前面板上,出射孔设置在底板上;衰减腔的内部靠近出射孔的一端固定有透射体;透射体前表面的中部正对入射孔的位置处设置有对激光高反射率的漫反射膜;入射激光束经过漫反射膜漫反射、再经过衰减腔内腔的多次漫反射匀化和透射体的透射后,经出射孔出射;入射孔为倒锥孔,从迎光面处至衰减腔内腔孔径逐渐增大。实现了高空间分布的激光束取样和测量,克服了传统积分球球体带来的空间尺寸较大、在排布成二维阵列时无法实现高空间分辨率的激光参数测量的问题。
搜索关键词: 用于 高能 激光 分布 参数 测量 光束 取样
【主权项】:
1.用于高能激光光强分布参数测量的光束取样器,其特征在于:包括固联为一体的前面板(12)和底板(5);所述前面板(12)与底板(5)上开设若干只呈面阵排布的衰减器单元;所述衰减器单元包括同轴设置入射孔(6)、衰减腔(2)和出射孔(7);入射孔(6)和衰减腔(2)设置在前面板(12)上,出射孔(7)设置在底板(5)上;衰减腔(2)的内部靠近出射孔(7)的一端固定有透射体(3),透射体(3)对激光高透射;所述透射体(3)前表面的中部正对入射孔(6)的位置处设置有对激光高反射率的漫反射膜(4),使得透射体(3)前表面形成一个环形透光窗口;衰减腔(2)的内腔经过漫反射表面处理;入射激光束(8)经过漫反射膜(4)漫反射、再经过衰减腔(2)内腔的多次漫反射匀化和透射体(3)的透射后,经出射孔(7)出射;所述入射孔(6)为倒锥孔,从迎光面(1)处至衰减腔(2)内腔孔径逐渐增大。
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