[发明专利]平面光波导、PLC芯片、光束整形结构及WSS有效

专利信息
申请号: 201811614929.8 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN109597162B 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 王谦;李永宏;郭正伟 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: G02B6/122 分类号: G02B6/122;G02B6/35
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 颜晶
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种平面光波导、PLC芯片、光束整形结构及WSS,平面光波导为拟柱体,形状呈片状,包括第一底面和第二底面,第一底面和第二底面均为平面且相互平行,平面光波导的厚度小于或等于10微米;平面光波导包括依次延伸并平滑过渡的第一部分、第二部分和第三部分,第一部分与第二部分连接处的宽度小于第二部分与第三部分连接处的宽度;第二部分包括两个侧面,该侧面为向外隆起的弧面,且该侧面与平行于第一底面的横截面的交线的倾斜度从与第一部分相接处向与第三部分相接处逐渐减小。本申请实施例有助于提高从平面光波导传导出的光束的相位的均匀性,改善PLC芯片的光束整形效果,进而改善光束整形结构的光束整形效果,提高WSS的性能。
搜索关键词: 平面 波导 plc 芯片 光束 整形 结构 wss
【主权项】:
1.一种平面光波导,其特征在于,所述平面光波导为拟柱体,形状呈片状,包括与第一方向平行的第一底面和第二底面,所述第一底面与所述第二底面相互平行,所述第一底面和所述第二底面均为平面,所述平面光波导的厚度小于或等于10微米,所述厚度为所述平面光波导在第二方向上的尺寸,所述第二方向垂直于所述第一底面;所述平面光波导在所述第一方向上包括依次延伸并平滑过渡的第一部分、第二部分和第三部分,所述第一部分与所述第二部分连接处的宽度小于所述第二部分与所述第三部分连接处的宽度,所述宽度为所述平面光波导在第三方向上的尺寸,所述第三方向同时垂直于所述第一方向和所述第二方向;所述第一部分用于将从远离所述第二部分的一端接收到的光线传导至所述第二部分,或者,将从所述第二部分接收到的光线通过所述远离所述第二部分的一端传导出所述平面光波导;所述第二部分包括两个侧面,所述侧面为向外隆起的弧面,且所述侧面与平行于所述第一底面的横截面的交线的倾斜度从与所述第一部分相接处向与所述第三部分相接处逐渐减小,所述倾斜度为所述交线在所述横截面上的切线与所述第一方向之间的夹角;所述第三部分用于将从所述第二部分接收到的光线通过远离所述第二部分的一端传导出所述平面光波导,或者,将从所述远离所述第二部分的一端接收到的光线传导至所述第二部分。
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