[发明专利]一种防眩光（AG玻璃）纳米级蒙砂粉颗粒蚀刻工艺在审
| 申请号： | 201811615442.1 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109574510A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 尚苏平;李伟伟;王瑞娜 | 申请（专利权）人： | 河南豫科玻璃技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 452470 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明涉及蒙砂玻璃表面制备技术领域，具体涉及一一种防眩光（AG玻璃）纳米级蒙砂粉颗粒蚀刻工艺，其中，所述刻蚀玻璃的表面具有纳米级粗糙结构；该纳米级粗糙结构的表面形貌具有不规则的纳米级别凸起和凹坑；纳米凸起和纳米凹坑的轮廓尺寸为40nm‑200nm。蒙砂玻璃的刻蚀工艺包括：（1）蒙砂粉制备；（2）玻璃清洗；（3）光刻加工；（4）氢氟酸刻蚀；（5）蒙砂刻蚀：将蒙砂液搅拌混合均匀之后，进行蒙砂操作，蒙砂刻蚀时间为1min‑3min；蒙砂刻蚀之后，首先采用大量清水冲洗玻璃表面，去除大量蒙砂粉；然后依次采用去离子水和无水乙醇进行表面进一步清洗，获得清洁表面。本发明能够同时保证透光性和防眩光效果，具有较好的实用价值及推广价值。 | ||
| 搜索关键词： | 蒙砂粉 纳米级 刻蚀 蒙砂 粗糙结构 颗粒蚀刻 蒙砂玻璃 凹坑 凸起 眩光 玻璃 表面形貌 表面制备 玻璃表面 玻璃清洗 刻蚀玻璃 刻蚀工艺 纳米级别 清洁表面 清水冲洗 去离子水 无水乙醇 眩光效果 不规则 蒙砂液 氢氟酸 透光性 光刻 去除 制备 清洗 加工 保证 | ||
【主权项】：
1.一种基于调整蒙砂颗粒达到纳米级技术的蚀刻玻璃，其特征在于：所述刻蚀玻璃的表面具有纳米级粗糙结构；该纳米级粗糙结构的表面形貌具有不规则的纳米级别凸起和凹坑；纳米凸起和纳米凹坑的轮廓尺寸为40nm‑200nm。
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