[发明专利]描绘装置、描绘方法以及记录介质有效

专利信息
申请号: 201811617451.4 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN110014734B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 长尾知幸 申请(专利权)人: 卡西欧计算机株式会社
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01;A45D29/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 薛凯
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供描绘装置、描绘方法以及记录介质。描绘装置具备:描绘头;和控制所述描绘头的动作的处理器,在所述描绘头能移动的范围内,载置手指并对所述手指的指甲进行由所述描绘头实施的描绘的描绘区域、在所述描绘头不进行描绘的非描绘时配置所述描绘头的待机区域和所述描绘头能暂时停止的临时停止区域,设置在从所述临时停止区域到所述描绘区域的所述描绘头的移动距离短于从所述待机区域到所述描绘区域的移动距离的位置,处理器执行如下处理:在对多个所述指甲当中的1个指甲进行描绘后连续对下一指甲进行描绘的情况下,在所述1个指甲与所述下一指甲的描绘动作的间歇,不使所述描绘头移动到所述待机区域,而使其在所述临时停止区域临时停止。
搜索关键词: 描绘 装置 方法 以及 记录 介质
【主权项】:
1.一种描绘装置,其特征在于,具备:描绘头;和控制所述描绘头的动作的处理器,在所述描绘头能移动的范围内,载置手指并对所述手指的指甲进行由所述描绘头实施的描绘的描绘区域、在所述描绘头不进行描绘的非描绘时配置所述描绘头的待机区域和所述描绘头能暂时停止的临时停止区域,设置在从所述临时停止区域到所述描绘区域的所述描绘头的移动距离短于从所述待机区域到所述描绘区域的移动距离的位置,处理器执行如下处理:在对多个所述指甲当中的1个指甲进行描绘后连续对下一指甲进行描绘的情况下,在所述1个指甲与所述下一指甲的描绘动作的间歇,不使所述描绘头移动到所述待机区域,而使其在所述临时停止区域临时停止。
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