[发明专利]一种在平面光波导表面制备微纳结构的方法有效
| 申请号： | 201811621644.7 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN109655971B | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 胡治朋;张渊;黄广飞;朱圣科;刘柳 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G02B6/122 |
| 代理公司： | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人： | 宣国华;刘艳丽 |
| 地址： | 510006 广东省广州市广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在平面光波导表面制备微纳结构的方法，包括以下步骤：(1)选取表面具有凸起平面光波导的基片，在所述基片的表面上设置光刻胶；(2)利用掩膜对所述凸起平面光波导上的光刻胶进行局部曝光，在所述凸起平面光波导上形成曝光窗口，并对所述曝光窗口显影；(3)在显影后的基片上设置微纳米球；(4)在设有微纳米球的基片上设置材料薄膜；(5)去除曝光窗口区域上的微纳米球，在所述微纳米球之间的空隙处形成材料薄膜，即构成所述平面光波导表面的微纳结构。该方法利用掩膜和微纳米球在平面光波导表面制备微纳结构，经济实惠、耗时短、使用灵活、稳定可靠，可实现批量化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 波导 表面 制备 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在平面光波导表面制备微纳结构的方法，其特征是包括以下步骤：(1)选取表面具有凸起平面光波导的基片，在所述基片的表面上设置光刻胶；(2)利用掩膜对所述凸起平面光波导上的光刻胶进行局部曝光，在所述凸起平面光波导上形成曝光窗口，并对所述曝光窗口显影；(3)在显影后的基片上设置微纳米球；(4)在设有微纳米球的基片上设置材料薄膜；(5)去除曝光窗口区域上的微纳米球，在所述微纳米球之间的空隙处形成材料薄膜，即构成所述平面光波导表面的微纳结构。
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