[发明专利]一种平面直光波导的制备方法在审
| 申请号： | 201811622962.5 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN109633816A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 胡治朋;张渊;黄广飞;朱圣科;刘柳 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G02B6/122 |
| 代理公司： | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人： | 宣国华;刘艳丽 |
| 地址： | 510006 广东省广州市广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种平面直光波导的制备方法，包括以下步骤：(1)选取基片，在所述基片上设置光刻胶；(2)对步骤(1)中设置光刻胶的基片进行紫外激光干涉光刻，在所述光刻胶表面形成条形阵列波导图形；(3)利用掩膜对步骤(2)紫外激光干涉光刻过的基片进行紫外曝光，形成条形阵列波导图形中条形宽度渐变的平面直光波导图形；(4)对经过步骤(3)紫外曝光过的基片进行显影，获得宽度渐变的光刻胶型平面直光波导。该方法利用激光干涉光刻及紫外二次曝光实现了宽度渐变平面直光波导的制备，经济实惠、耗时短，可实现批量化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 光波导 宽度渐变 光刻胶 制备 紫外激光干涉光刻 波导图形 条形阵列 紫外曝光 光波导图形 光刻胶表面 二次曝光 激光干涉 批量化 光刻 显影 掩膜 耗时 生产 | ||
【主权项】：
1.一种平面直光波导的制备方法，其特征是包括以下步骤：(1)选取基片，在所述基片上设置光刻胶；(2)对步骤(1)中设置光刻胶的基片进行紫外激光干涉光刻，在所述光刻胶表面形成条形阵列波导图形；(3)利用掩膜对步骤(2)紫外激光干涉光刻过的基片进行紫外曝光，形成条形阵列波导图形中条形宽度渐变的平面直光波导图形；(4)对经过步骤(3)紫外曝光过的基片进行显影，获得宽度渐变的光刻胶型平面直光波导。
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