[发明专利]一种电离层层析方法及装置有效
| 申请号： | 201811624823.6 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN109657191B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 朱新慧;张龙龙;王刃;孙付平;刘婧 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军战略支援部队信息工程大学 |
| 主分类号： | G06F17/11 | 分类号： | G06F17/11;G06F17/17 |
| 代理公司： | 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 | 代理人： | 吴敏 |
| 地址： | 450001 河南省郑*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种电离层层析方法及装置，包括：根据MART算法中的组合量和截距值构建新的组合量，以新的组合量确定电离层电子密度的迭代方程，根据该迭代方程对电离层进行层析反演得到电子密度。本发明将通过像素内的截距值与电子含量作为组合量，构造新的组合量，由于综合考虑了电子含量和截距值，有效提高了反演精度，使迭代结果更加准确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电离层 层析 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电离层层析方法，其特征在于，包括以下步骤：根据MART算法中的组合量和截距值构建新的组合量，以新的组合量确定电离层电子密度的迭代方程，根据该迭代方程对电离层进行层析反演得到电子密度；所述迭代方程为：![]()
![]()
其中，![]()
为第i条射线上第j个像素中电子密度的第k+1步迭代值；![]()
为第i条射线上第j个像素中电子密度的第k步迭代值；yi为第i条射线的实测电子含量；xi,k为第k步迭代时第i条射线上各个像素的电子密度组成的行向量；ai为第i条射线上各个像素的截距值组成的列向量；<xi,k,ai>表示求行向量xi,k和列向量ai的乘积；aij为第i条射线穿过第j个像素的截距值；u为迭代系数；![]()
为第i条射线对应的松弛因子；n为一条射线包含的像素数目；![]()
为新的组合量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军战略支援部队信息工程大学，未经中国人民解放军战略支援部队信息工程大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811624823.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
