[发明专利]用于化学气相沉积的进气口元件及其制造方法

摘要

用于化学气相沉积反应器(10)的进气口元件由多个长形的管状元件(64，65)构成，该多个长形的管状元件相互肩并肩地设置在一个垂直于反应器上下游方向的平面上。所述管状元件具有用于沿下游方向排放气体的进气口。晶片载体(14)绕着上游至下游的轴旋转。气体分布元件可以提供这样的气体分布模式：气体分布关于延伸穿过所述轴的中间平面(108)为非对称。

主权项

1.一种进气口元件，其特征在于，具有气体分布表面，所述气体分布表朝向下游方向，并在相互垂直且垂直于下游方向的X和Y水平方向上延伸，所述进气口元件具有多个长形的进气口，适于将气体在所述下游方向排放至反应室内，所述长形的进气口在X水平方向上相互平行地延伸，所述长形的进气口设置为在气体分布表面的主要部分上延伸的模式，所述长形的进气口包括多个用于排放第一气体的第一进气口，以及多个用于排放第二气体的第二进气口，所述第一进气口在Y水平方向上相互间隔设置，所述第二进气口在Y水平方向上相互间隔设置，并与第一进气口穿插，其中，所述第一和第二进气口设置为关于沿X水平方向延伸的中间平面成反对称的模式，使得对于任何距X方向中间平面的一侧为正Y距离的第一进气口，都在相应的、距X方向中间平面的相对侧为负Y距离处设置第二进气口，因此，一旦所述第一反应气体和所述第二反应气体从所述第一进气口和所述第二进气口排放到靠近旋转的晶片载体的位置，所述第一反应气体和所述第二反应气体就被卷入旋转气流并且彼此混合，以使物质在由所述载体保持的晶片上沉积。