[发明专利]光学扫描设备和电子成像装置有效

专利信息
申请号: 201811633897.6 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109491077B 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 聂勇超;王超 申请(专利权)人: 珠海奔图电子有限公司
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G02B26/12;G02B26/08
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 胡艾青;刘芳
地址: 519060 广东省珠海市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种光学扫描设备和电子成像装置,包括:光源;光学偏转器;成像光学系统,用于将光学偏转器偏转的光束引导至被扫描面上成像;成像光学系统包括,满足:fc/fs≤0.6,X1‑X1c>0,X2‑X2c>0的F‑θ透镜其中,fc为F‑θ透镜的fθ系数;fs为F‑θ透镜的焦点距离;X1为任一入射点在主光轴上投影与扫描原点之间的距离;X2为任一出射点在主光轴上投影与扫描原点之间的距离;X1c为中心入射点与扫描原点之间的距离;X2c为中心出射点与扫描原点之间的距离,从而降低了图像畸变和线性扫描性能恶化的可能性,在实现体积小型化的同时提高了扫描成像的准确性,提高了画像质量。
搜索关键词: 光学 扫描 设备 电子 成像 装置
【主权项】:
1.一种光学扫描设备,包括:光源,用于发射光束;第一光学单元,用于使所述光源发出的光束在主扫描方向上准直和在副扫描方向上聚焦;光学偏转器,用于偏转所述第一光学单元出射的光束;成像光学系统,用于将所述光学偏转器偏转的光束引导至被扫描面上成像;其特征在于,所述成像光学系统包括F‑θ透镜,所述F‑θ透镜接受从所述光学偏转器出射的偏转光的表面有效区域为入射表面,所述F‑θ透镜的出射形成扫描光的表面有效区域为出射表面;入射到所述光学偏转器的所述光束所在的直线与所述F‑θ透镜的主光轴的交点为扫描原点;所述光束与F‑θ透镜的入射表面上的交点为入射点,所述F‑θ透镜的入射表面与所述主光轴相交的点为中心入射点;所述光束与F‑θ透镜的出射表面上的交点为出射点,所述F‑θ透镜的出射表面与主光轴相交的点为中心出射点,所述F‑θ透镜满足如下公式一、公式二和公式三:fc/fs≤0.6  公式一,X1‑X1c>0  公式二,X2‑X2c>0  公式三;其中,fc为所述F‑θ透镜的fθ系数;fs为所述F‑θ透镜的焦点距离;X1为任一所述入射点在所述主光轴上投影与所述扫描原点之间的距离;X2为任一所述出射点在所述主光轴上投影与所述扫描原点之间的距离;X1c为所述中心入射点与所述扫描原点之间的距离;X2c为所述中心出射点与所述扫描原点之间的距离。
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