[发明专利]一种处理方法、装置、电子设备及存储介质在审
| 申请号： | 201811634198.3 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109729221A | 公开（公告）日： | 2019-05-07 |
| 发明（设计）人： | 高明 | 申请（专利权）人： | 联想（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H04M1/725 | 分类号： | H04M1/725 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 100085 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种处理方法、装置、电子设备及存储介质，获得环境参数，环境参数用于表征电子设备所在环境中的目标成分的参数，如果环境参数满足第一条件，确定第一指令，电子设备依据第一指令处于第二状态，在第二状态下，电子设备激发目标成分的能力低于电子设备在第二状态下激发目标成分的能力。本方案中通过获得环境参数，并确定环境参数满足第一条件时，控制电子设备处于第二状态，而非容易激发目标成分的第一状态，这就避免了在环境参数满足第一条件时仍采用容易激发目标成分的第一状态，容易导致的对目标成分的激发，为电子设备在使用过程中造成危险的问题，避免了安全隐患。 | ||
| 搜索关键词： | 电子设备 环境参数 第一条件 激发 存储介质 控制电子设备 指令 安全隐患 申请 | ||
【主权项】：
1.一种处理方法，包括：获得环境参数，所述环境参数用于表征电子设备所在环境中的目标成分的参数；如果所述环境参数满足第一条件，确定第一指令；所述电子设备依据所述第一指令处于第二状态，其中，在所述第二状态下，所述电子设备激发所述目标成分的能力低于所述电子设备在第一状态下激发所述目标成分的能力。
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