[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用在审
| 申请号： | 201811635491.1 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN111378376A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 杨俊雅;荆建芬;马健;汪国豪;宋凯;周文婷 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒，腐蚀抑制剂，络合剂，氧化剂，以及磷酸酯类表面活性剂。本发明抛光液的优点在于：1)本发明的抛光液对铜的抛光速率高，对钽的抛光速率低，从而具有较高的铜/钽抛光速率选择比；2)本发明的抛光液可以改善抛光后铜线的碟型凹陷和介质层侵蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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