[发明专利]X射线吸收光栅制作方法及其X射线吸收光栅

摘要

本发明公开了一种X射线吸收光栅制作方法及其X射线吸收光栅，制作方法包括步骤：在基底上制作光栅槽或光栅孔，形成光栅槽阵列或光栅孔阵列；有机溶剂、水、表面活性剂清洗基底；金属纳米颗粒加入挥发性溶剂和表面活性剂，制得悬浊液；真空下，将金属纳米颗粒悬浊液填充至光栅微结构中，且金属纳米颗粒沉降填满光栅槽或光栅孔；检测，如填充不均匀或者光栅微结构内没有布满金属纳米颗粒，继续填充；清洗基底表面的金属纳米颗粒。吸收光栅包括基底，基底上设有光栅槽阵列或光栅孔阵列，光栅槽或光栅孔填满金属纳米颗粒。本发明的吸收光栅与熔融金属材料制成的光栅性能相差无几，且制作方法简单、门槛低、成本低廉，便于在普通实验室操作及实现。

主权项

1.一种X射线吸收光栅制作方法，其特征在于，包括以下步骤：A、光栅微结构制作：根据光栅图形在基底上制作光栅槽或光栅孔，光栅槽或光栅孔排列形成光栅槽阵列或光栅孔阵列；B、清洗干燥：采用有机溶剂、水、表面活性剂清洗光栅微结构，然后干燥；C、配置金属纳米颗粒悬浊液：选用金属纳米颗粒，加入挥发性溶剂，并加入表面活性剂，分散后制得均匀分散的金属纳米颗粒悬浊液；其中挥发性溶剂：表面活性剂的体积比为(200:1)‑(20:1)，金属纳米颗粒选用X射线强吸收金属；金属纳米颗粒的粒径小于槽宽的一半或孔径的一半；D、预填充及其沉降：真空下，将金属纳米颗粒悬浊液填充至光栅微结构的光栅槽或光栅孔中，并使得金属纳米颗粒沉降填满光栅微结构的光栅槽或光栅孔；E、重复填充及沉降：检测，如填充不均匀或者光栅微结构内没有布满金属纳米颗粒，继续填充至金属纳米颗粒填满光栅微结构的光栅槽或光栅孔；F、后处理：清洗基底表面的金属纳米颗粒，得到X射线吸收光栅。