[发明专利]一种光探测器和光探测器的制作方法在审

专利信息
申请号: 201811643499.2 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109817730A 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 孙思维 申请(专利权)人: 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/18
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 李博洋
地址: 214135 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种光探测器和光探测器的制作方法。该光探测器,包括:衬底,以及沿入射光传播方向依次同层设置在所述衬底上的无源波导区、吸收区和反射光栅区;无源波导区用于将光耦合至所述吸收区,反射光栅区用于将未被所述吸收区吸收的光反射回所述吸收区,通过本发明的光探测器,利用反射光栅区将未被吸收区吸收的光信号反射到吸收区,进行二次吸收,提高光探测器对光信号的吸收能力,从而能够实现光探测器对光信号的高响应度。
搜索关键词: 光探测器 吸收区 反射光栅 无源波导区 衬底 光信号反射 传播方向 二次吸收 同层设置 吸收能力 高响应 光反射 光耦合 入射光 吸收 制作
【主权项】:
1.一种光探测器,其特征在于,包括:衬底,以及沿入射光传播方向依次同层设置在所述衬底上的无源波导区、吸收区和反射光栅区;所述无源波导区用于将所述入射光耦合至所述吸收区;所述反射光栅区用于将未被所述吸收区吸收的所述入射光反射回所述吸收区。
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