[发明专利]X射线双相位光栅相衬成像系统

摘要

本发明公开了一种X射线双相位光栅相衬成像系统，包括沿X射线发射方向依次设置的X射线管、源光栅G₀、相位光栅和X射线探测器，所述相位光栅包括间隔设置第一相位光栅G₁和第二相位光栅G′₁，所述第一相位光栅G₁、第二相位光栅G′₁位于源光栅G₀和X射线探测器之间，在第一相位光栅G₁后形成自成像次级源G₂；所述X射线管发出的X射线、源光栅G₀与第一相位光栅G₁组成一个泰伯劳系统；所述自成像次级源G₂与第二相位光栅G′₁组成逆泰伯劳系统。本发明的系统能够避免小周期、高深宽比的源光栅和大面积、小周期、高深宽比吸收光栅的使用，降低光栅相衬成像系统的实现难度。

主权项

1.一种X射线双相位光栅相衬成像系统，包括沿X射线发射方向依次设置的X射线管、源光栅G0、相位光栅和X射线探测器，其特征在于，所述相位光栅包括间隔设置第一相位光栅G1和第二相位光栅G′1，所述第一相位光栅G1、第二相位光栅G′1位于源光栅G0和X射线探测器之间，在第一相位光栅G1后形成自成像次级源G2；所述X射线管发出的X射线、源光栅G0与第一相位光栅G1组成一个泰伯劳系统；所述自成像次级源G2与第二相位光栅G′1组成逆泰伯劳系统。