[发明专利]一种光刻投影物镜及光刻机有效
| 申请号： | 201811648523.1 | 申请日： | 2018-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN109375480B | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 张羽;安福平 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B13/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称，所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称；所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述光阑对称； |
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| 搜索关键词： | 一种 光刻 投影 物镜 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称，所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称；所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述光阑对称；![]()
其中，f1为所述第一透镜组以及所述第六透镜组的焦距，f2为所述第二透镜组以及所述第五透镜组的焦距，f3为所述第三透镜组以及所述第四透镜组的焦距。
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