[发明专利]一种摄像装置环境试验稳定性的检测装置及方法有效

专利信息
申请号: 201811653814.X 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109632264B 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 昌明;赵建科;周艳;乔卫东;郭梁;王争锋;薛勋;李晶;巩立;李跃 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所;西安理工大学
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 涂秀清
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开的一种摄像装置环境试验稳定性的检测方法,首先安装好检测装置,包括光学平台,光学平台上间隔安装剪切架I和剪切架II,所述剪切架I上放置PSD自准直仪,剪切架II上放置摄像装置,调整剪切架I和剪切架II的高度控制PSD自准直仪的光轴与摄像装置的光轴等高,调整自准直仪与摄像装置光轴位置,确保自准直仪的偏差角度为零;然后摄像装置采集自准直仪的图像判断十字分划板的像在图像中的位置,对比试验前后的十字分划板的像在图像中的位置,确定摄像装置在经历规定的环境试验后的稳定性。本发明公开的检测方法结构简单,调整便捷,便于在试验现场快速搭建和测量,受环境影响因素小的特点。
搜索关键词: 摄像装置 剪切架 环境试验 自准直 十字分划板 光学平台 检测装置 自准直仪 光轴 图像 环境影响因素 摄像装置光轴 对比试验 高度控制 间隔安装 图像判断 检测 等高 测量 采集 试验
【主权项】:
1.一种摄像装置环境试验稳定性的检测方法,其特征在于,具体操作过程包括如下步骤:步骤1.安装一种摄像装置稳定性的检测装置,包括光学平台(1),所述光学平台(1)上间隔安装剪切架I(2)和剪切架II(7),所述剪切架I(2)上放置PSD自准直仪(3),所述剪切架II(7)上放置摄像装置(6),调整所述剪切架I(2)和所述剪切架II(7)的高度控制所述PSD自准直仪(3)的光轴与所述摄像装置(6)的光轴等高;所述PSD自准直仪(3)包括目标反射面(31)、望远透镜组(32)、光源(33)、聚焦透镜(35)、分光棱镜(36)、汇聚透镜(37)和PSD芯片(38),所述汇聚透镜(37)的焦点处与所述光源(33)之间安装有十字分划板(34),所述光源(33)采用了中心波长为780nm的LED光源,调频驱动为1kHz频率方波;步骤2.调整所述剪切架I(2)和所述剪切架II(7)的高度,使得PSD自准直仪(3)的光轴与摄像装置(6)的光轴等高,调整所述PSD自准直仪(3)与所述摄像装置(6)粗对准,保证所述PSD自准直仪(3)的测量光束投射在所述摄像装置(6)的前表面玻璃上并反射回被所述PSD自准直仪(3)接收,所述PSD自准直仪(3)会有提示音,并在显示屏幕显示偏差角度;然后,根据偏差角度通过调整方位微调旋钮(4)和俯仰微调旋钮(5)微调PSD自准直仪(3)使得十字丝光标与屏幕中心十字线重合,偏差角度为零;步骤3.所述摄像装置(6)通电,拍摄所述PSD自准直仪(3)发射的含有所述十字分划板(34)的像的图像,按照一定判读算法计算所述十字分划板(34)的像在图像中的位置;步骤4.对比试验前后的所述十字分划板(34)的像在图像中的位置,确定所述摄像装置(6)光学机械结构与CCD焦面结构的相对位置变化,确定摄像装置(6)在经历规定的环境试验后的稳定性,如果试验前后的相对位置差异大,则摄像装置(6)稳定性差,如果试验前后的相对位置不变,则摄像装置(6)稳定性好。
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