[实用新型]MEMS结构、MEMS组件有效
| 申请号： | 201820026158.X | 申请日： | 2018-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN208429862U | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 季锋;闻永祥;刘琛;刘健 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/00 | 分类号： | B81B7/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;张靖琳 |
| 地址： | 310012*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请公开了MEMS结构、MEMS组件。包括：模板层，所述模板层包括用于限定空腔的第一凹槽；位于所述模板层上的停止层；位于所述空腔上的掩模层；位于所述掩模层上的封闭层，所述封闭层封闭所述多个释放孔，其中，所述模板层还包括围绕所述第一凹槽的多个第二凹槽，所述多个第二凹槽与所述释放孔的位置相对应，所述封闭层包括多个突出部，其中，所述第一凹槽的第一深度大于第二凹槽的第二深度，其中，多个第二凹槽与释放孔的位置相对应，封闭层包括多个突出部，多个突出部穿过多个释放孔插入至多个第二凹槽中，从而形成栓塞以封闭多个释放孔。利用栓塞结构填充释放孔以及封闭空腔，以提高MEMS结构的工作稳定性和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 释放孔 封闭层 模板层 突出部 掩模层 工作稳定性 封闭空腔 栓塞结构 停止层 限定空 封闭 栓塞 空腔 填充 穿过 申请 | ||
【主权项】：
1.一种MEMS结构，包括：模板层，所述模板层包括用于限定空腔的第一凹槽；位于所述模板层上的停止层，所述停止层覆盖所述第一凹槽的底部和侧壁，从而形成与所述第一凹槽相对应的所述空腔；位于所述空腔上的掩模层，所述掩模层包括与所述空腔连通的多个释放孔；以及位于所述掩模层上的封闭层，所述封闭层封闭所述多个释放孔，其特征在于，所述模板层还包括围绕所述第一凹槽的多个第二凹槽，所述多个第二凹槽与所述释放孔的位置相对应，所述封闭层包括多个突出部，所述多个突出部穿过所述多个释放孔插入至所述多个第二凹槽中，从而形成栓塞以封闭所述多个释放孔，其中，所述第一凹槽的第一深度大于第二凹槽的第二深度。
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