[实用新型]一种激光测准系统有效
申请号: | 201820036083.3 | 申请日: | 2018-01-09 |
公开(公告)号: | CN208075799U | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | 张瓯;宗晓明;丁鼎 | 申请(专利权)人: | 常州华达科捷光电仪器有限公司 |
主分类号: | G01B11/30 | 分类号: | G01B11/30;G01C15/00 |
代理公司: | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人: | 李佳铭;沈汶波 |
地址: | 213023 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种激光测准系统,所述激光测准系统包括,激光发散装置,用于将激光发散为覆盖同一平面的多束激光,第一激光源,向所述激光发散装置发射第一激光,所述激光测准系统还包括,第二激光源和合光装置,其特征在于,所述第一激光源和第二激光源向所述合光装置发射第一激光和第二激光,所述第一激光和第二激光经合光装置后分别产生第三激光和第四激光,所述第三激光和第四激光射向所述激光发散装置,所述激光发散装置将第三激光和第四激光分别发散为覆盖同一平面的多束激光。采用本实用新型所提供的技术方案,可以加强激光的光强,在保证不易受干扰的情况下,使得激光的两侧较为均匀,减小测准误差。 | ||
搜索关键词: | 激光 激光发散装置 激光源 准系统 本实用新型 多束激光 光装置 发散 合光装置 发射 覆盖 光强 减小 保证 | ||
【主权项】:
1.一种激光测准系统,所述激光测准系统包括,激光发散装置,用于将激光发散为覆盖同一平面的多束激光,第一激光源,向所述激光发散装置发射第一激光,所述激光测准系统还包括,第二激光源和合光装置,其特征在于,所述第一激光源和第二激光源向所述合光装置发射第一激光和第二激光,所述第一激光和第二激光经合光装置后分别产生第三激光和第四激光,所述第三激光和第四激光射向所述激光发散装置,所述激光发散装置将第三激光和第四激光分别发散为覆盖同一平面的多束激光。
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