[实用新型]一种用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备有效
申请号: | 201820043454.0 | 申请日: | 2018-01-10 |
公开(公告)号: | CN207760424U | 公开(公告)日: | 2018-08-24 |
发明(设计)人: | 冯云 | 申请(专利权)人: | 漳州龙文区汇洋远软件开发有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/48;C23C16/458 |
代理公司: | 深圳市汉唐知识产权代理有限公司 44399 | 代理人: | 彭益宏 |
地址: | 363005 福建省漳州*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备,包括炉体和炉盖,炉盖的下方设有内热机构,炉体内设有沉积机构,沉积机构包括紧固组件和若干沉积组件,沉积组件包括竖杆、套环和两个基片,紧固组件包括第二电机、驱动轮和若干紧固单元,内热机构包括升降组件、升降块和若干第二红外灯管,该用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备通过内热机构对基片的内表面进行加热,加速了基片升温,加快碳原子的分解沉积速度,从而提高了生产效率,不仅如此,通过沉积机构中的紧固组件对各个基片进行紧固,防止基片受气流和转盘旋转的影响而发生转动,影响基片的受热,从而保证了石墨烯的生产效率,提高了设备的实用性。 | ||
搜索关键词: | 生产效率 石墨烯 沉积 沉积设备 紧固组件 气相反应 内热 制备 沉积组件 炉盖 本实用新型 红外灯管 紧固单元 升降组件 影响基片 转盘旋转 受热 内表面 驱动轮 碳原子 紧固 炉体 竖杆 套环 加热 升降 转动 电机 体内 分解 保证 | ||
【主权项】:
1.一种用于制备石墨烯的生产效率高的气相反应沉积设备,包括炉体(1)、进气管(2)、出气管(3)、炉盖(4)和至少两个支脚(5),所述进气管(2)设置在炉体(1)的一侧,所述出气管(3)设置在炉体(1)的另一侧,所述进气管(2)和出气管(3)均与炉体(1)连通,所述支脚(5)周向均匀分布在炉体(1)的下方,所述炉盖(4)设置在炉体(1)的上方,所述炉体(1)内设有若干第一红外灯管(32),所述第一红外灯管(32)周向均匀分布在炉体(1)的内壁上,其特征在于,所述炉盖(4)的竖向截面的形状为U形,所述U形截面的开口的下方设有内热机构,所述炉体(1)内设有沉积机构;所述沉积机构包括第一电机(6)、转盘(7)、紧固组件和若干沉积组件,所述第一电机(6)固定在炉体(1)内的底部,所述第一电机(6)与转盘(7)传动连接,所述紧固组件设置在转盘(7)的上方,所述沉积组件周向均匀分布在紧固组件的外周;所述沉积组件包括竖杆(8)、套环(9)和两个基片(10),所述竖杆(8)的底端固定在转盘(7)上,所述套环(9)套设在竖杆(8)上,两个基片(10)分别设置在竖杆(8)的两侧;所述紧固组件包括第二电机(11)、驱动轮(12)和若干紧固单元,所述第二电机(11)固定在转盘(7)的上方,所述第二电机(11)与驱动轮(12)传动连接,所述紧固单元周向均匀分布在驱动轮(12)的外周,所述紧固单元与沉积组件一一对应;所述内热机构包括升降组件、升降块(13)和若干第二红外灯管(14),所述升降组件与升降块(13)传动连接,所述第二红外灯管(14)周向均匀分布在升降块(13)的外周,所述升降组件包括驱动单元、移动块(15)、固定块(16)、伸缩架(17)、铰接块(18)和两个支杆(19),所述驱动单元与移动块(15)传动连接,所述固定块(16)固定在炉盖(4)的下方,所述伸缩架(17)的顶端的两侧分别与移动块(15)和固定块(16)铰接,所述伸缩架(17)的底端的两侧分别通过两个支杆(19)与铰接块(18)铰接,所述铰接块(18)固定在升降块(13)的上方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于漳州龙文区汇洋远软件开发有限公司,未经漳州龙文区汇洋远软件开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820043454.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:隔离型速热式有色镜片镀膜装置
- 下一篇:双功能反应炉
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的