[实用新型]一种用于点源透过率测试的改进型腔体有效
申请号: | 201820061726.X | 申请日: | 2018-01-15 |
公开(公告)号: | CN207742114U | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 李朝辉;李晓辉;赵建科;徐亮;刘峰;张玺斌;于敏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01N21/59 | 分类号: | G01N21/59 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 汪海艳 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型属于光学系统杂散光测试领域,涉及一种用于点源透过率测试的改进型腔体。包括密封腔体及设置在密封腔体外部的光陷阱;密封腔体的侧壁由横截面为优弧的两个曲面对接而成;两个曲面的对接处设入光口;密封腔体的顶部与底部通过平板密封;光陷阱位于与入光口相对的两个曲面的对接处;光陷阱的横截面为等腰梯形。排除了PST测试结果中的“尖峰”噪点。 | ||
搜索关键词: | 密封腔体 光陷阱 点源透过率 对接处 改进型 入光口 腔体 本实用新型 测试 尖峰 测试领域 等腰梯形 光学系统 平板密封 杂散光 侧壁 优弧 噪点 外部 | ||
【主权项】:
1.一种用于点源透过率测试的改进型腔体,包括密封腔体及设置在密封腔体外部的光陷阱;密封腔体的侧壁由横截面为优弧的两个曲面对接而成;两个曲面的对接处设入光口;密封腔体的顶部与底部通过平板密封;其特征在于:所述光陷阱位于与入光口相对的两个曲面的对接处;所述光陷阱的横截面为等腰梯形。
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